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二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大

二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大，如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白，在这发白的颗粒周围感应了正电荷，而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小，使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强，所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面，如金属、陶瓷和塑料等材料的断口，所以在材料学科中扫描电镜得到了广泛应用。

半导体器件(IC)研究中的特殊应用

在半导体器件(IC)研究中的特殊应用：

　　1)利用电子束感生电流EBIC进行成像，可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究

　　2)利用样品电流成像，结果可显示电路中金属层的开、短路，因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。

　　3)利用二次电子电位反差像，反映了样品表面的电位，从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况，特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。

　　4、利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构(原子在晶体中的排列方式)，晶体取向分布分析，基于晶体结构的相鉴定。

电磁透镜有聚光镜及物镜两种

通常，电磁透镜有聚光镜及物镜两种：聚光镜是电子向样品移动时遇到的个透镜。该透镜在电子束锥再次打开前使电子束会聚，并在撞击扫描样品之前由物镜再次会聚。聚光镜决定了电子束的大小(这决定了分辨率高低)，而物镜的主要作用是将电子束聚焦到样品上。它的透镜系统还包含扫描线圈，用来对样品表面进行栅网式扫描。很多时候，会将光阑与透镜相结合来控制电子束的大小。

首先在扫描电镜窗口下找到感兴趣的样品区域，其次在能谱软件窗口对样品区域进行点、线或面扫描，即可获取样品区域的元素种类、分布及含量百分比。

台式扫描电镜的真空要求和小容量的抽真空使

台式扫描电镜的真空要求和小容量的抽真空使台式扫描电镜抽真空时间短，也比传统落地扫描电镜呈像速度快。台式扫描电镜可直接操作，节省了实验操作人员执行分析，准备报告并传达结果所需的时间。除了台式扫描电镜系统响应快之外，分析即时性和用户实时根据观察结果来指导研究工作是具有要当大的潜在价值的。在一些应用中，比如钙钛矿的观察，因为钙钛矿在空气中非常容易氧化，因此如果抽真空的时间过长，样品的表面形貌和成分会发生改变，台式扫描电镜能有效地减小钙钛矿的氧化。