9d实验室样品测试-天津不导电样品电镜分析

在半导体器件(IC)研究中的特殊应用：

　1)利用电子束感生电流EBIC进行成像，可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究

　2)利用样品电流成像，结果可显示电路中金属层的开、短路，因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。

　3)利用二次电子电位反差像，反映了样品表面的电位，天津不导电样品电镜分析，从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况，特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。

　4、利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构(原子在晶体中的排列方式)，晶体取向分布分析，基于晶体结构的相鉴定。

二次电子的检测信号和光电转换效率要高→图像信号的接收和信噪比的问题。试样表面的细节要足够多和细、组分反差要大→试样表面的结构问题。试样的导电性要好、二次电子产额要高→试样的特征和制备问题。加速电压和束流的大小、束斑的对中、工作距离和图像的衬度调节等电镜参数的选择要合理→操作人员的工作经验、综合素质问题。供电电压的波动、地面的振动、周围的磁场和噪声等各种干扰都要尽可能小→环境条件的问题。

通常，电磁透镜有聚光镜及物镜两种：聚光镜是电子向样品移动时遇到的个透镜。该透镜在电子束锥再次打开前使电子束会聚，并在撞击扫描样品之前由物镜再次会聚。聚光镜决定了电子束的大小(这决定了分辨率高低)，而物镜的主要作用是将电子束聚焦到样品上。它的透镜系统还包含扫描线圈，用来对样品表面进行栅网式扫描。很多时候，会将光阑与透镜相结合来控制电子束的大小。

首先在扫描电镜窗口下找到感兴趣的样品区域，其次在能谱软件窗口对样品区域进行点、线或面扫描，即可获取样品区域的元素种类、分布及含量百分比。