扫描电镜分析费用-德宏扫描电镜分析-9d实验室电镜测试

在半导体器件(IC)研究中的特殊应用：

　1)利用电子束感生电流EBIC进行成像，可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究

　2)利用样品电流成像，结果可显示电路中金属层的开、短路，扫描电镜分析机构，因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。

　3)利用二次电子电位反差像，反映了样品表面的电位，从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况，特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。

　4、利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构(原子在晶体中的排列方式)，扫描电镜分析费用，晶体取向分布分析，扫描电镜分析价格，基于晶体结构的相鉴定。

扫描电镜能谱一体机标配光学导航功能，点击感兴趣的区域，在数秒内既可以得到样品微观形貌信息，点击切换至能谱软件界面可快速得到该区域的表面元素分布信息。扫描电镜能谱软件可以使用户实现多点分析，灵活检测样品的元素组分。同时，该软件还支持元素分析线扫、面扫功能。优化精简的操作界面可以帮助用户更方便地收集、导出分析数据。

扫描电镜是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗 粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。其中二次电子是主要的成像信号。

二次电子主要是来自于距试样表面1~10nm之间深度的亚表面（试样表面0~1nm之间深度发出的电子主要为俄歇电子），二次电子能量在0~50eV之间，平均能量约30eV，所以这些二次电子能很好地显示出试样表面的微观形貌。由于入射电子仅经过几纳米的路径，还没有被多次反射和明显扩散，因此在入射电子照射的作用区内产生的二次电子区域与入射束的束斑直径差别不大，所以在同一台电镜中二次电子像的分辨能力。二次像的分辨力优于背散射像，背散射像的分辨力优于吸收电流像，德宏扫描电镜分析，吸收电流像的分辨力优于阴极荧光像。目前场发射和钨阴极电镜的二次电子像的分辨力都能分别优于1.0nm和3.0nm。一般情况下，扫描电镜的指标中所提及的图像分辨力，若没有特别说明，都是泛指二次电子像的分辨力。