天津9d实验室(图)-扫描电镜测试中心-日照扫描电镜测试

描电镜和透射电镜对样品的要求

　1、扫描电镜

　扫描电镜制样对样品的厚度没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，扫描电镜测试费用，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度的薄层来说，造成的误差更大。

　2、透射电镜

　由于透射电镜得到的显微图像的质量强烈依赖于样品的厚度，因此样品观测部位要非常的薄，例如存储器器件的透射电镜样品一般只能有10～100nm的厚度，这给透射电镜制样带来很大的难度。初学者在制样过程中用手工或者机械控制磨制的成品率不高，一旦过度削磨则使该样品报废。透射电镜制样的另一个问题是观测点的定位，一般的制样只能获得10mm量级的薄的观测范围，这在需要分析的时候，目标往往落在观测范围之外。目前比较理想的解决方法是通过聚焦离子束刻蚀(FIB)来进行精细加工。

扫描电镜和透射电镜设备的不同点：

　高分辨率台式扫描电镜使用—组特定的线圈以光栅样式扫描样品并收集散射的电子。

　透射电镜是使用透射电子，收集透过样品的电子。因此，透射电镜提供了样品的内部结构，如晶体结构，形态和应力状态信息，而扫描电镜则提供了样品表面及其组成的信息。

　而且，这两种设备的差别之一是它们可以达到的空间分辨率;扫描电镜的分辨率被限制在～0.5nm，而随着近在球差校正透射电镜中的发展，已经报道了其空间分辨率甚至小于50pm。

简述什么是扫描电子显微镜

扫描电子显微镜（SEM）其实就是一种介于光学显微镜与透射电子显微镜之间的一种观察手法。它运用聚焦的极窄的高能电子束来扫描样品，扫描电镜测试中心，经过物资和光束间的互相作用，来激起种种物理信息，日照扫描电镜测试，对这些信息、缩小、再成像是为了达到对物资微观形貌表征的目的。新款的扫描电子显微镜的分辨率能够达到一纳米；缩小倍数能够达到三十万倍及以上不间断进行调节；而且视线大，景深大，成像立体效果佳。除此之外，扫描电子显微镜以及其余分析仪器相互结合，能够做到观察微观形貌的同一时间进行物质微区成份分析。扫描电子显微镜在石墨、岩土、纳米材料以及陶瓷等的研发上有普遍使用。所以扫描电子显微镜在科学研究行业拥有极大的功用。